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MLA100 德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/14 8:22:15
  • 訪問次數(shù)706
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
德國海德堡 激光直寫光刻機(jī) MLA100:適合用科研領(lǐng)域的中小型實(shí)驗(yàn)室與大學(xué)研究所,支持套刻直寫功能,面積為60x75cm的MLA100設(shè)計(jì)用于安裝在中小型的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室中,只需要電源和壓縮空氣即可運(yùn)行。
MLA100 德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

MLA100 德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機(jī)

適合用科研領(lǐng)域的中小型實(shí)驗(yàn)室與大學(xué)研究所,支持套刻直寫功能



MLA100聚焦于合理價(jià)格下依然維持高性能,是許多研發(fā)應(yīng)用的理想光刻解決方案。該光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)為以50mm²/min的速度在光刻膠中直寫出1μm結(jié)構(gòu),而無需使用掩膜板。從光刻工藝中免除掩膜板步驟制程以增加靈活性并顯著縮短圖形制作周期。MLA100由曝光指引系統(tǒng)(GUI)控制,該系統(tǒng)可指導(dǎo)操作員完成整個(gè)過程:加載基材信息,選擇設(shè)計(jì)并開始曝光。面積為60x75cm²的MLA100設(shè)計(jì)用于安裝在中小型的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室中,只需要電源和壓縮空氣即可運(yùn)行。

MLA100的應(yīng)用包括Life Science, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor, Sensors, Actuators, MOEMS, Material Research, Nano-Tubes, Graphene以及任何其他需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用。

功能:

刻寫速度: 50 mm²/分鐘的速度

基板尺寸:6 x 6”

曝露面積:100 x 100毫米

結(jié)構(gòu)精度: 1µm

大功率LED光源

基于SLM光引擎

多種數(shù)據(jù)輸入格式

基本灰度曝光模式

對準(zhǔn)攝像系統(tǒng)

實(shí)時(shí)自動(dòng)對焦

User-optimized接觸向?qū)?/span>


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