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Etchlab200 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機(可升級)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市藍星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2021/7/13 20:28:52
  • 訪問次數(shù)212
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深圳市藍星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務,研發(fā)設計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準分子清洗機,等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設備,擁有自主品牌及注冊商標。 同時我們代理歐美日多家高科技設備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術, 服務, 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設備和材料的整體解決方案。 應用領域: 半導體/微納,光電/光學, 生命科學/生物醫(yī)療等領域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構等。 半導體/微納,光電/光學 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機,電子束光刻機, 激光直寫光刻機,紫外光刻機,微納3D打印機,德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機,微波離子沉積機MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機,電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機等*技術產(chǎn)品。 生命科學/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設備,光譜/色譜/質譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實驗耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質的產(chǎn)品與服務,為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構等客戶提供儀器設備和材料。
電子顯微鏡
Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機(可升級), 具備低成本效益高的特點,并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載片器,實現(xiàn)多片工藝樣品的快速裝載,也可以直接快速地把樣品裝載在電極上。RIE等離子體刻蝕設備具備占地面積小,模塊化和靈活性等設計特點。
Etchlab200 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機(可升級) 產(chǎn)品信息

Etchlab200 德國Sentech 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機(可升級)

經(jīng)濟型等離子刻蝕設備EtchLab 200 具備低成本效益高的特點,并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載片器,實現(xiàn)多片工藝樣品的快速裝載,也可以直接快速地把樣品裝載在電極上。RIE等離子體刻蝕設備具備占地面積小,模塊化和靈活性等設計特點。

商品描述:

低成本效益高

RIE等離子蝕刻機Etchlab 200結合平行板等離子體源設計與直接置片。

升級擴展性

根據(jù)其模塊化設計,等離子蝕刻機Etchlab 200可升級為更大的真空泵組,預真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件

該等離子刻蝕機配備了用戶友好的強大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

Etchlab 200 RIE等離子刻蝕機代表了直接置片等離子刻蝕機家族,它結合了RIE的平行板電極設計和直接置片的成本效益設計的優(yōu)點。Etchlab 200的特征是簡單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設計特點。位于頂部電極和反應腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進行原位監(jiān)測。

Etchlab 200等離子蝕刻機可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半導體,介質和金屬。

Etchlab 200通過*的SENTECH控制軟件操作,使用遠程現(xiàn)場總線技術和用戶友好的通用用戶界面。

Etchlab 200

  • RIE等離子蝕刻機
  • 開蓋設計
  • 適用于200mm的晶片
  • 用于激光干涉儀和OES的診斷窗口
  • 選配橢偏儀接口

帶真空室的 Etchlab 200

  • 帶預真空室的RIE刻蝕機
  • 適用于4英寸到8英寸的晶片
  • 小片或碎片的載片器
  • 氯基刻蝕氣體
  • 更大的真空泵組

Etchlab 200-300

  • RIE等離子蝕刻機
  • 開蓋設計
  • 適用于300mm的晶片
  • 用于激光干涉儀和OES的診斷窗口

關鍵詞:真空泵
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