西藏超純水制取設(shè)備
超純水是美國科技界為了研制超純材料(半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當?shù)某R界精細技術(shù)生產(chǎn)出來的水,如今超純水已在生物、醫(yī)藥、汽車等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。這種水中除了水分子(H20)外,幾乎沒有什么雜質(zhì),更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物,當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素,超純水無硬度,口感較甜,又常稱為軟水,可直接飲用,也可煮沸飲用。超純水,是一般工藝很難達到的程度,如水的電阻率大于18MΩ*cm,接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。
一、西藏超純水制取設(shè)備參數(shù)
操作壓力 3(Mpa)
水電阻率 5-18.25兆歐 出水量 1-100t/h
外形尺寸 設(shè)計而定(cm) 電壓 380(V)
水質(zhì) 高純水 功率 設(shè)計而定(w)
電導率 10us/cm 脫鹽率 99.99(%)
單機出力 1-100t(/h)
二、超純水設(shè)備應(yīng)用范圍:
電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗
電子管生產(chǎn) 電子管陰極涂敷碳酸鹽配液
顯像管和陰極射線管生產(chǎn) 配料用純水
黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)
玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水
液晶顯示器的生產(chǎn)
屏面需用純水清洗和用純水配液
晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片,另有少量用于藥液配制
集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片
三、超純水設(shè)備工藝流程
預處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象 (≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(新工藝)
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17MΩ.CM) (新工藝)
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(新工藝)
處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-純水泵-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
三、印刷線路板超純水設(shè)備標準
顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)(經(jīng)驗數(shù)據(jù))
集成電路用純水水質(zhì)
國家電子級純水標準
美國SEMI標準
四、超純水設(shè)備特點
為滿足用戶需要,達到符合標準的水質(zhì),盡可能地減少各級的污染,延長設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設(shè)計上,取達國家自來水標準的水為源水,再設(shè)有介質(zhì)過濾器,活性碳過濾器,鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等。 系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無人職守,同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法,使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較,具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。