IKN磺胺二甲嘧啶混懸液立式膠體磨,混懸液膠體磨,高剪切膠體磨,立式膠體磨,分體式膠體磨,IKN高剪切膠體磨
磺胺二甲嘧啶混懸液膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果?;前范奏奏せ鞈乙? 磺胺二甲嘧啶混懸液是治療肺炎球菌肺炎,流行性腦脊髓膜炎,腦膜炎,神經(jīng)內(nèi)科,呼吸內(nèi)科等疾病的處方藥混懸液的要求 混懸劑中藥物微粒與分散介質(zhì)之間存在著固液界面,微粒的分散度較大,使混懸微粒具有較高的表面自由能,故處于不穩(wěn)定狀態(tài)。尤其是疏水性藥物的混懸劑,存在更大的穩(wěn)定性問(wèn)題。這里主要討論混懸劑的物理穩(wěn)定性問(wèn)題,以及提高穩(wěn)定性的措施。 IKN磺胺二甲嘧啶混懸液立式膠體磨,混懸液膠體磨,高剪切膠體磨,立式膠體磨,分體式膠體磨,IKN高剪切膠體磨混懸微粒的沉降 混懸劑中的微粒由于受重力作用,靜置后會(huì)自然沉降,其沉降速度服從Stokes定律: 按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應(yīng)在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外,在沉降過(guò)程中微粒電荷的相互排斥作用,阻礙了微粒沉降,故實(shí)際沉降速度要比計(jì)算得出的速度小得多。由Stokes定律可見(jiàn),混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比,與分散介質(zhì)的粘度成反比?;鞈椅⒘3两邓俣扔?,混懸劑的動(dòng)力學(xué)穩(wěn)定性就愈小?! 榱耸刮⒘3两邓俣葴p小,增加混懸劑的穩(wěn)定性,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑,采用適當(dāng)方法將藥物粉碎得愈細(xì)愈好。這是有效的一種方法。②加入高分子助懸劑,既增加了分散介質(zhì)的粘度,又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時(shí)助懸劑被吸附于微粒的表面,形成保護(hù)膜,增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等,減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時(shí)也增加混懸劑的粘度。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低,有效地增加了混懸劑的穩(wěn)定性。但混懸劑中的微粒終總是要沉降的,只是大的微粒沉降稍快,細(xì)小微粒沉降速度較慢,更細(xì)小的微粒由于布朗運(yùn)動(dòng),可長(zhǎng)時(shí)間混懸在介質(zhì)中。 ,混懸液膠體磨,高剪切膠體磨,立式膠體磨,分體式膠體磨,IKN高剪切膠體磨影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn) 1 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)2 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)3 物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)4 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)線速度的計(jì)算剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)由上可知,剪切速率取決于以下因素:轉(zhuǎn)子的線速率在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
,混懸液膠體磨,高剪切膠體磨,立式膠體磨,分體式膠體磨,IKN高剪切膠體磨