海濕亞電器設(shè)備有限公司專業(yè)生產(chǎn)手套箱超低露點(diǎn)除濕干燥機(jī)，模具除濕干燥機(jī)，移動(dòng)式四季型除濕機(jī)，超低露點(diǎn)轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)組，鋰電池轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)，玻璃合片室轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)，組合式轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)組，蜂巢式轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)， 冷凍除濕機(jī)，工業(yè)除濕機(jī)等 。

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轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)原理：

作為轉(zhuǎn)輪吸附式除濕機(jī)，其zui主要的核心部件是除濕轉(zhuǎn)輪，轉(zhuǎn)輪由特殊的超高效吸濕介質(zhì)材料，經(jīng)40多道加工工藝而合成。轉(zhuǎn)輪是一種特殊的蜂窩結(jié)構(gòu)，具有等距的、平行的、均一的空氣通道。這樣，轉(zhuǎn)輪不僅具有了與空氣接觸的巨大表面積，同時(shí)提高了轉(zhuǎn)輪的吸濕效率。

 轉(zhuǎn)輪在除濕機(jī)內(nèi)部分為處理區(qū)域和再生區(qū)域，除濕轉(zhuǎn)輪以8~10轉(zhuǎn)/小時(shí)的速度緩慢旋轉(zhuǎn)，以保證整個(gè)除濕為一個(gè)連續(xù)的過(guò)程。

當(dāng)處理空氣通過(guò)轉(zhuǎn)輪的處理區(qū)域時(shí)，其中的水蒸汽被轉(zhuǎn)輪中的吸濕介質(zhì)所吸附，水蒸氣同時(shí)發(fā)生相變，變?yōu)橐簯B(tài)水，并釋放出潛熱；這時(shí)，處理空氣因自身的水份減少而變成干空氣；之后，處理空氣由處理風(fēng)機(jī)送出，變成干的、熱的空氣。

同時(shí)，在再生區(qū)域，另一路空氣先經(jīng)過(guò)再生加熱器后，變成高溫空氣（一般為100~140度）并穿過(guò)吸濕后的轉(zhuǎn)輪，使轉(zhuǎn)輪中已吸附的水份蒸發(fā)，從而再生空氣因水份的蒸發(fā)而變成濕空氣，同時(shí)溫度下降；之后，再通過(guò)再生風(fēng)機(jī)將濕空氣排除到室外

轉(zhuǎn)輪除濕機(jī)用途：

1：工業(yè)： 軟膠囊干燥，膠體、粉類制造，涂裝、裝瓶等工序以及藥品的存儲(chǔ)與包裝；

2：電子工業(yè)：廣泛應(yīng)用一鋰電池干燥，光纖、PCB板、半導(dǎo)體、變壓器制造等其它電子電器領(lǐng)域；

3：食品加工業(yè)：應(yīng)用于蔬菜脫水，釀酒、巧克力、口香糖制造以及面粉加工等工藝；

4：科研：應(yīng)用于物理、化學(xué)分析室、仿真環(huán)境室，文物保管室等其它恒溫恒濕環(huán)境的維持；

5：涂裝工業(yè)：已大量應(yīng)用于船廠及化工廠大型設(shè)備的噴砂涂裝工藝；

6：干燥倉(cāng)儲(chǔ)：應(yīng)用于鋼才、種子、紙品、橡膠、木材、家具、精密電子機(jī)械備件等儲(chǔ)多防潮倉(cāng)儲(chǔ)；

7：國(guó)防軍事：用于等武器的保養(yǎng)等物資的儲(chǔ)藏，航天器的制造等領(lǐng)域；

等行業(yè)。

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無(wú)塵車間生產(chǎn)為什么要控制好濕度

發(fā)表時(shí)間：2016/8/14 23:06:38 閱讀：8 次

　　濕度控制是無(wú)塵車間生產(chǎn)必需具備的重要條件，相對(duì)濕度是無(wú)塵車間、潔凈室運(yùn)作過(guò)程中一個(gè)常用的環(huán)境控制條件。半導(dǎo)體無(wú)塵車間、潔凈室中的典型的相對(duì)濕度的目標(biāo)值大約控制在30至50%的范圍內(nèi)，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內(nèi)，例如光刻區(qū)或者在遠(yuǎn)紫外線處理(DUV)區(qū)甚至更小而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內(nèi)。
     近年，在這些規(guī)定范圍中保持處理空氣過(guò)程，使我們必需承擔(dān)資金和運(yùn)營(yíng)成本。但是為什么值得花費(fèi)這么多錢用在無(wú)塵車間、潔凈室中控制相對(duì)濕度呢？道理很簡(jiǎn)單！因?yàn)橄鄬?duì)濕度有一系列可能使?jié)崈羰铱傮w表現(xiàn)下降的因素，其中包括：
1、細(xì)菌生長(zhǎng)；
2、工作人員感到室溫舒適的范圍；
3、出現(xiàn)靜電荷；
4、金屬腐蝕；
5、水汽冷凝；
6、光刻的退化；
7、吸水性。
   細(xì)菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨蟲)在相對(duì)濕度超過(guò)60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對(duì)濕度超過(guò)30%時(shí)就可以增長(zhǎng)。在相對(duì)濕度處于40%至60%的范圍之間時(shí)，可以使細(xì)菌的影響以及呼吸道感染降至zui低。
   相對(duì)濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺(jué)舒適的適度范圍。濕度過(guò)高會(huì)使人覺(jué)得氣悶，而濕度低于30%則會(huì)讓人感覺(jué)干燥，皮膚破裂，呼吸道不適以及情感上的不快。
   高濕度實(shí)際上減小了無(wú)塵車間、潔凈室表面的靜電荷積累──這是大家希望的結(jié)果。較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當(dāng)相對(duì)濕度超過(guò)50%時(shí)，靜電荷開始迅速消散，但是當(dāng)相對(duì)濕度小于30%時(shí)，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長(zhǎng)一段時(shí)間。
   相對(duì)濕度在35%到40%之間可以作為一個(gè)令人滿意的折中，半導(dǎo)體無(wú)塵車間、潔凈室一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。
   很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過(guò)程，將隨著相對(duì)濕度的增高而加快。所有暴露在無(wú)塵車間、潔凈室周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應(yīng)加速。幸運(yùn)的是，一些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護(hù)型的氧化物，并阻止進(jìn)一步的氧化反應(yīng)；但另一種情況是，例如氧化銅，是不具有保護(hù)能力的，因此，在高濕度的環(huán)境中，銅制表面更容易受到腐蝕。
   當(dāng)相對(duì)濕度在70%左右時(shí)，就成為顆粒之間黏附的主要力量。
   到目前為止，在半導(dǎo)體無(wú)塵車間、潔凈室中zui迫切需要適當(dāng)控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對(duì)相對(duì)濕度極為敏感的特性，它對(duì)相對(duì)濕度的控制范圍的要求是zui嚴(yán)格的水準(zhǔn)。
   實(shí)際上，相對(duì)濕度和溫度對(duì)于光刻膠穩(wěn)定性以及精確的尺寸控制都是很關(guān)鍵的。甚至是在恒溫條件下，光刻膠的粘性將隨著相對(duì)濕度的上升而迅速下降。當(dāng)然，改變粘性，就會(huì)改變由固定組分涂層形成的保護(hù)膜的厚度。參考兩個(gè)城市，一個(gè)試驗(yàn)證實(shí)，相對(duì)濕度的3%的變異將使保護(hù)厚度改變59.2A(原文如此)。
   此外，在高的相對(duì)濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對(duì)濕度的負(fù)面影響；較低的相對(duì)濕度(約30%)使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑，如六甲基二硅氮烷(HMDS)。 
   總而言之半導(dǎo)體無(wú)塵車間、潔凈室中控制相對(duì)濕度不是隨意的。但是，隨著時(shí)間的變化，回顧一下常見(jiàn)的被普遍接受的實(shí)踐的原因和基礎(chǔ)。